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NSC1000-NSC10000PEG浓缩脱水装置
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NSC-1000 磁控溅射系统
Thickness Monitor 膜厚监测SEM应用溅射金属,最大到6“的晶圆片 磁控溅射技术带有水冷或者加热(最高可加热到700度)功能,最大到6 不锈钢,铝质腔体或钟罩式
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磁控溅射系统NSC-4000 (M)
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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NSC-3000 (M) 磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗预真空锁以及自动晶圆片上/下载片 NSC-3000(M)磁控溅射系统带有水冷或者
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NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统
RF、DC溅射热蒸镀能力RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗 NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到
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NSC-3000 (A) 全自动磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗 NSC-3000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(最高可加热到
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FOSS近红外谷物品质分析仪Infratec TM 1241
和国家标准批准其为官方标准方法,如AACC(美国谷物化学家协会)、NTEP(美国标准检测评估委员会)、AOAC(国际化学家分析协 会)、GIPSA(美国农业部谷物检测/包装/储存管理局)、NSC
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NTE-3500 (M) 热蒸发系统
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NTE-3000 热蒸镀系统
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NTE-4000 (A) 全自动热蒸发系统
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