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PECVD MVS
薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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1200高真空PECVD系统
坩埚,石英管,计算机控制软件保修卡整机一年保修(相关耗材除外)可根据客户要求定制! 1200℃高真空PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过
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带有预热系统的滑动PECVD
升温速度(达到zei高温)20℃/min内部尺寸OD:100mm×ID:94mm×Leng1450mm加热方式掺钼铁铬铝合金(表面涂有氧化锆涂层,可延长使用寿命)zei大功率4KW控温精度±1
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在线式HIT用PECVD MVS
在线式HIT用PECVDIn-Line PECVD system for HIT junctions用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18
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制样机
制样机EP 02用于冲压制备橡胶和塑料测试试样。EP 02是实验室小型气动制样机。EP 02安装于橡胶座上,不需要依附桌子。制样机 EP 02
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镶样机
简单介绍:最大承载压力:12吨,尺寸:14" 长 x 12" 宽 x 20" 高 (35.5 cm x 30.5 cm x 50.9 cm)重量:102 lbs (46.3 kg)镶样后成型尺寸
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混样机
混合谷粒、面粉、粉状物(添加剂类)样品磨粉前进行快速润麦碾磨后将面粉进行混样面粉与添加剂的均匀混合混麦和混粉 工作原理:绞龙水平移动实现混样均一化:- 单向螺纹绞龙,用于粒状样品(小麦
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熔样机
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冲击缺口制样机冲击缺口制样机
冲击缺口制样机是悬臂梁,简支梁式冲击试验机做非金属材料冲击韧性试验时所用缺口式样的制样设备,本设备可供科研机关,大专院校,非金属材料长等单位的试验室制备缺口式样使用.该机主要技术参数
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