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光刻胶
紫外光刻胶(Photoresist)各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线
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YAMATO光刻胶固化炉
性 能 (依 JTM 规格 )使用温度范围 : 室温 +50~50 0℃温度调节精度: ±0. 5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下)温度分布精度: ±5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下
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SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统
SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统概述:zei新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zei新的水平,可以帮助用户获得zei干净的晶圆片和
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Primo定制化细胞微环境制备系统
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加样工作台PCR UV²/UV³
的工 作环境。*可配置2个或3个内置的短波(254nm)UV灯进行全方位的灭菌处理*紫外灭菌时间zei长可达12h*紫外锁功能可避免样品意外暴露在紫外灯下*安全锁功能可避免样品意外暴露在紫外灯下
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UV-VISHPLC
UV-VISHPLC获取产品详情请联系环测公司 UV-VISHPLC获取产品详情请联系环测公司 UV-VISHPLC获取产品详情请联系环测公司
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ST/UV/A UV紫外光老化试验箱
主要技术参数昊极科技UV紫外光老化试验箱光源:UV-A(波长340nm)或UV-B(波长313nm);40W×8支(正常使用寿命6000小时)辐照度可设定范围:0.3 W/M2 ~1.55 W
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Edmund UV透射光栅
可选择多种衍射角采用UV等级熔融石英基片非常适合用于固定光栅应用UV透射光栅是分光计和采用小型检测器阵列的其他紧凑型系统的理想选择。本产品以简单的方式在波长范围介于250 – 450nm之间的
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微波UV反应系统
微波UV反应系统(定制)微波功率:1500W微波频率:2450MHz±50MHz 微波UV反应系统(定制) 微波UV反应系统(定制)微波功率:1500W微波频率:2450MHz±50MHz
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filmetrics 台式膜厚测试仪 F20
380-1700nm F20-NIR 100nm - 250μm 950-1700nm F20-UV 1nm - 40μm 190-1100nm F20-UVX 1nm - 250μm
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