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CrossLab 多厂商仪器服务
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光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
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CO2低温液化系统 厂商
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Gigaphoton深紫外線準分子激光器
的最前沿技术。ArF 浸润式是目前可量产的光刻技术极限。Gigaphoton 是一个被半导体厂商和光刻机厂商认可的光源供应商,也是最早进入量产阶段的厂商。其设计先进,具有波长和带宽稳定控制技术、耗材
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Ushio 手动光刻机
*产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH;Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和
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DMD无掩膜光刻机
产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点
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美国OAI光刻机 5000E
型号: 5000E OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,顶级,亚微米对准和分辨率。 美国OAI
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小型台式无掩膜光刻机
Microwriter ML3基本型增强型旗舰型 最大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm 最大直写面积149mm x 149mm149mm x
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EVG620系列单面/双面光刻机
EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及
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光学正面和背面光刻机OAI 800型
型号: OAI 800 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。 800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是
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