原子层沉积(ALD)
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原子层沉积系统(ALD)
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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2
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P 系列粉末原子层沉积系统
P 系列粉末原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该
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美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统
系统ALD 原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层
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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统很多人相信,潘多拉的魔盒还埋藏着尚未开发的宝物——希望!正是基于对于新技术应用的美好愿景,Forge Nano 开发了 PANDORA 台式原子层沉积
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THEIA超快平面原子层沉积系统
THEIA 超快平面原子层沉积系统THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并
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牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
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