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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2
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原子层沉积系统(ALD)
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国产动物口鼻吸入暴露系统
ME型口鼻式暴露染毒系统以进口仪器为模型,高度还原口鼻式暴露原理。专为大小鼠等啮齿类动物设计,采用进口雾化装置,雾化颗粒细,输出稳定。可以根据不同实验需要选择粉尘式口鼻暴露系统或者气溶胶暴露
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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纳米材料沉积喷墨打印系统
林实验室, 南洋理工光电国家重点实验室等 SonoPlot Microplotter是世界上zei先进zei精密的微纳米打印系统,又名纳米材料沉积喷墨打印系统,在制作过程中没有加热和剪切应力因而不会
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CBIO-GelPro国产凝胶成像分析系统
系统配置及主要技术参数: 1.紫外灯箱:抽屉式全封闭的人性化设计,zei大程度上避免紫外线对人体的伤害。紫外透射波长:312nm(可选),紫外透射面积:200×200mm
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电弧等离子体沉积系统
系统参数: 1. 真空腔尺寸:400X400X300长宽高2. 抽空系统:分子泵450L/s3. 电弧等离子体源:标配一个,最多3个4. 沉积气压:真空或者低气压气体(N2, H2,O2
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P 系列粉末原子层沉积系统
P 系列粉末原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该
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美国ARRADIANCE台式原子层沉积系统
盘-热壁复合加热方式。 尾气处理系统: 臭氧发生器: 粉末旋转沉积罐模块:配合热壁加热方式,进一步实现对微纳粉末样品全保型薄膜均匀沉积包覆。 手套箱接口: 可从侧面或背面完美接入
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NBM microPLD 脉冲激光沉积系统
技术参数:1. 靶:数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制。2. 基板:采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差
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