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抛光机
磨头:1-5个 转速:25到200rpm 标准样品尺寸:30x45mm, 60x45mm,特定 计时器:1到60分钟 抛光盘直径:200mm, 硬度可调 多种抛光料:6um, 3um, 1um
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研磨/抛光机
• 经济型手动单盘和双盘磨光/抛光机 • 操作简单,设备运行稳定可靠 • 安装Vector LC动力头,可升级为半自动磨抛系统 • 磨盘转速可调,操作人员可以选择不同的转速以适用于各种应用要求
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MicroPol™抛光机
/抛光仪器,适用于纳米、半导体以及材料科学等领域的样本制作。能够依据不同样本属性设置不同的抛光参数。使用这款仪器,您会不费力气的获得高质量的样本。 MicroPol™抛光机MicroPol
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研磨抛光机
技术参数:磨盘直径: 200mm、抛盘 200mm 磨盘/抛盘转速:0~600r/min(或根据用户要求定制)电动机:370W 220V 50Hz外型尺寸:690×715×310mm净重
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振动抛光机
仪器简介:该振动抛光机为标乐公司第二代振动抛光产品。目前,已广泛的应用与各大企事业单位和研究院所大学。对于SEM扫描电镜EBSD分析用样品的制备非常有效!技术参数:1、 防腐蚀、防
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LaboSystem 研磨抛光机
时执行检测操作。LaboSystem 是一种组装式研磨和抛光系统,有三种 LaboPol 抛光机、三种 LaboForce 移动盘和两种 LaboDoser 配料装置供选择。这三种装置有七种不同的组合
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金相试样抛光机
一、MC004-LP-2型立式双盘抛光机产品简介: MC004-LP-2型抛光机是采集多方面使用人员的意见和要求设计而成的,它具有造型美、结构合理、传动平稳、噪音小
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VibroMet™ 2 振动抛光机
产地属性:美洲VibroMet® 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层。 设定后无需过多留心·样品在抛光盘中可自动开始振动抛光·12in [305 mm]直径抛光盘可同时
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双台手动抛光机
参数: 抛光台尺寸:250mm 抛光台转速:100 到600 rpm 脚踏版控制:有 水平喷嘴:用于金刚石磨盘 水压:可调 用于样品切片前与抛光前样片的磨抛作业与整形清理,分单盘或双盘
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自动精密研磨抛光机
产品型号:Unipol-1502产品简介:Unipol-1502型精密研磨抛光机可用于加工制备各种晶体材料、陶瓷材料及金属材料而设计的新一代产品。该机配有直径381毫米的研磨抛光盘和三个加工
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