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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层
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原子层沉积系统(ALD)
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纳米多层沉积自动机
产地类别国产化学合成仪 层层自组装技术将反应基片在两种或多种溶液中交替浸泡,通过化学或静电力使 两种相互反应的物质成分交替沉积,形成多层膜。根据膜组分,以及基片的不同,在溶剂中的浸泡的时间从
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桨态床沉积制备装置
25通讯模块1个26无线通讯模块2个27可燃气体报警器1台 岩征仪器桨态床沉积制备装置采用不锈钢制成,具有密封性能好,耐温耐腐蚀等优点。反应器加热方式采用电热炉加热,控温精度高,对吸热和放热反应温度
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ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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沉积物采样器
技术参数:适用水深:5米以内采样规格:所采集样品为河流、湖泊、浅海柱状沉积物(底泥),采样深度为1米(少许增加附件可以达到1.5米),样品直径57 mm。 采样管尺寸:Ø 63x57 mm
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纳米材料沉积喷墨打印系统
林实验室, 南洋理工光电国家重点实验室等 SonoPlot Microplotter是世界上zei先进zei精密的微纳米打印系统,又名纳米材料沉积喷墨打印系统,在制作过程中没有加热和剪切应力因而不会
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