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ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为
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华爱GC-9560-EG电子气体分析用氦离子化气相色谱仪
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BV-Ⅲ型批量涡旋混合器(Bulk Vortexer Mixer
、混合、振 荡、萃取和孵育样品。被溶剂混合、液液萃取、沉 淀蛋白、中草药提取、兽药残留提取、细胞颗粒再 悬浮质粒提取等领域广泛应用。 样品处理能力:可同时振荡10-200个
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD) PlasmaPro 100
该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有zei大的工艺灵活性,适用于化合物半导体
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牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100
牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度
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牛津PlasmaPro 100等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD
该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。System 100 -等离子刻蚀与沉积设备 该设备是
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膜厚监测仪
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博睿BRF-10全自动流动注射分析仪
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美国Janis 10K光学型制冷机
Characterization材料特性研究• Materials Deposition 材料淀积• Matrix Isolation 基体隔离• Microscopy显微镜测试• M
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普发真空A4 / ADH系列多级罗茨干泵
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