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自动分散清洗系统
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酸蒸清洗系统
高温超净酸蒸清洗系统,高温超净酸蒸清洗系统供应 高温超净酸蒸清洗系统能彻底、安全地清洗痕量分析所使用的各种TFM、PFA、玻璃和石英材质实验容器。包括:微波消解罐、试管、烧瓶等器皿。清洗完毕后
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TraceClean 酸逆流清洗系统
TraceCLEAN 酸逆流清洗系统适用于元素分析所使用的各种TFM/PFA/石英等器皿的超痕量快速清洗,全自动清洗过程,包括各种消解罐,矩管等。它能安全地清洗痕量分析所使用的各种附件
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清洗有效性TOC系统
用于药物制造领域的系统目前,根据GxP准则,制药生产和开发站点对引进开发,制造和控制系统有强烈需求。而且,根据GxP准则,医药制造业和水质控制中也需要水作为原材料和冲洗水。TOC-V系列不仅符合
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IVC 700 饮水瓶清洗灌装系统
用途:智能型自动罐水装置,用于实验动物实验室的饮水瓶灌水一、控制系统:*1、微电脑芯片控制系统,采用不小于8.8寸全彩色触摸屏显示和操作控制,不小于256色彩色显示系统,通过颜色变化提醒用户机器工作
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全自动逆流清洗系统UV900
清洗温度 :120℃清洗液类型 :碱性清洗剂、酸性清洗剂外部尺寸(L*W*D) :1398×850×530 mm加热功率 :1kW腔体容积 :75L超洁净、无残留;极限清洗;一键完成、清洗
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SWC-4000 (C) 兆声清洗系统
SWC-4000 (C) 兆清洗系统概述:zei新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zei新的水平,可以帮助用户获得zei干净的晶圆片和掩模
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SEM/TEM电镜样品等离子清洗系统
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NIE-3000 (C) 离子束清洗系统
分子泵,串接500 l/min干泵14“不锈钢或铝质腔体 该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护
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NIE-3500 (MC) 离子束清洗系统
分子泵,串接500 l/min干泵14"不锈钢或铝质腔体 离子束清洗系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本
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