-
光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
-
WOP的3D激光光刻机nSCULPTOR
秒激光系统和光学组件,激光微加工车间,激光微加工自动化软件,定制激光系统和设备控制电路。3D激光光刻机 nSCULPTORnSCULPTOR是用于纳米结构加工的3D激光光刻系统,基于多光子聚合(mPP
-
无掩模板紫外光刻机 TTT-07-UV Litho-ACA
-
Ushio 手动光刻机
*产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH;Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和
-
DMD无掩膜光刻机
产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点
-
美国OAI光刻机 5000E
型号: 5000E OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,顶级,亚微米对准和分辨率。 美国OAI
-
小型台式无掩膜光刻机
Microwriter ML3基本型增强型旗舰型 最大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm 最大直写面积149mm x 149mm149mm x
-
EVG620系列单面/双面光刻机
EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及
-
农药残留速测仪品牌
* 波长配置:410nm;* 抑制率显示范围:0%~100%;* 抑制率测量范围:0%~100%;* 透射比准确度:±1.5%;* 透射比重复性:≤0.5%;* 漂移:≤0.005Abs
-
光学正面和背面光刻机OAI 800型
型号: OAI 800 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。 800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是
-
1.
沃特世国产液质联用系统首发,持续加码本土化布局
-
2.
安捷伦推出新型光谱流式细胞仪NovoCyte Opteon
-
3.
总投资539.82亿元 贵州发布第一批大规模设备更新清单
-
4.
浙大328亿排第二!全国高校2024年度预算经费出炉,24所高校破百亿
-
5.
42个领域 北京2024年首批设备购置与更新改造贷款贴息项目开始申报
-
6.
拉曼光谱仪2024Q1市场分析| 科研之光VS监管之盾的双重选择
-
7.
8分委 187人 国家药监局成立化妆品标准化技术委员会
-
8.
京津冀协同发展丨东丽经开区强链补链引人才,盘活资产启新程
-
9.
2024年第一季度食品安全监督抽检结果公布 农药残留超标占比近一半
-
10.
中国第一,全球第五!丹东百特上榜“世界工业新闻”年度报告
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net