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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层
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原子层沉积系统(ALD)
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RESOChron激光原位(U-Th)/He双定年系统
微量元素表征。设备优势和应用范围:1、应用于富铁河流沉积矿床成矿期的古气候条件;2、应用于石油和天然气勘探;3、应用于成矿区的造山抬升/剥蚀速率(地形演化);4、在分析过程中避免矿物或气体包裹体;5
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瑞典单槽地质刻槽取样机 K760
瑞典地质刻槽取样机(K760 汽油动力)HUSQUARNA手持式机动刻槽机可代替传统的人工手凿取样方法,取样速度快,效率高,样品规范!广泛应用于没有电力情况下的地质勘探、固体矿床的勘查取样等
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瑞典地质刻槽取样机
矿床的勘查取样等野外作业!多角度多方位高效率采样、劳动强度低、粉尘少,采样质量好、成本低!装置机构灵巧,便于拆装运输!应用领域野外岩石地质刻槽取样固体矿床勘查取样矿山勘探地质编录矿藏品位分析 功能特点
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纳米多层沉积自动机
产地类别国产化学合成仪 层层自组装技术将反应基片在两种或多种溶液中交替浸泡,通过化学或静电力使 两种相互反应的物质成分交替沉积,形成多层膜。根据膜组分,以及基片的不同,在溶剂中的浸泡的时间从
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桨态床沉积制备装置
25通讯模块1个26无线通讯模块2个27可燃气体报警器1台 岩征仪器桨态床沉积制备装置采用不锈钢制成,具有密封性能好,耐温耐腐蚀等优点。反应器加热方式采用电热炉加热,控温精度高,对吸热和放热反应温度
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ALD原子层沉积设备-SVT
NorthStar ALD系统介绍:NorthStar ALD原子层沉积系统提供各种淀积方法,包括热淀积以及能量增强淀积。每台设备可以提供多达8个先驱源管路以及一个热壁淀积腔,使其应用范围极为
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