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低温等离子体刻蚀设备
等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处: 1、其除去了有机
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CrossLab 多厂商仪器服务
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CO2低温液化系统 厂商
的xo系列二氧化碳液化系统是将常压的CO2 气体加压到2 MPa 左右, 对应的饱和温度大约- 20℃ 左右, 再用制冷机组吸收潜热使其液化,便可以生产出工业或食品用液态二氧化碳,改设备已经广泛应用
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牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能
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IMP-EPD 等离子体刻蚀终点检测仪
参数:• 高灵敏度的 SIMS/MS,带脉冲离子计数检测器• 三级过滤四极杆,标准配置质量数为300 amu• 稳定性(24h以上,峰高变化小于 ±0.5%)• 通过 RS232、RS485或以
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD) PlasmaPro 100
该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有zei大的工艺灵活性,适用于化合物半导体
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牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100
牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度
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景观雾森设备 人造雾设备
景观雾森设备 人造雾设备:景观人造雾的出现,突破了传统的造雾手法,不但使景观更具自然意味,同时在舞美空间里,能以大面积的雾效营造出气势磅礴的舞美效果,使舞台空间多了一种表现形式,赢得了舞美专业
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配套设备
氧化锆坩埚纯度达到99.9,密度为6.00,使用温度为2200度,主要运用在熔炼贵金属,抗热稳定性能良好。 主要用途 熔化贵稀金属。氧化锆坩埚,高温稳定性好, 是理想的实验高温耐火制品。货期
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Quantus LP100 低压气体光谱分析仪
快速采样频率24赫兹小巧,易安装 应用:用于半导体,平板显示器及太阳能等行业PVD,CVD及刻蚀腔体检漏,气体组份比率及等离子体刻蚀终点探测(Endpoint)。 等离子体频率400M Hz, 光波长
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