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等离子刻蚀ICP
(E-chuck),以便更有效地在刻蚀工艺中让基片保持冷却。该E-chuck使用氦压力控制器,及在基片背面保持一个氦冷却层,从而达到控制基片温度的作用。该设备可选配一个电感耦合等离子(ICP)源,其
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高温等离子样品台
NM-LTP:低温样品台,可加热到3000CNM-MTP:中温样品台,可加热到5000CNM-HTP:高温样品台。可加热到7000C NANO-MASTER(那诺-马斯特)样品台可以直接安装到
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等离子薄膜溅射仪
产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和
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等离子清洗机
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等离子体清洗机/等离子体表面处理仪
仪器简介:通过等离子体与固体表面的相互作用,消除固体表面的有机污染物,固体如: 金属、陶瓷、玻璃、硅片等等,同时可以用等离子处理系统对样品表面进行 处理,改善样品表面的特性,如亲水
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等离子表面处理仪
产品型号:GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪产品简介:GSL1100X-PJF 等离子表面处理仪是一种紧凑的大气离子表面处理喷射系统,主要由射频发生器、离子束头组成。喷射的离子束流能在
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Harrick 等离子清洗机
PDC-002-HP 等离子清洗机产地:美国 HARRICK PLASMA型号:PDC-002-HP 主要特点:1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。2. 功率为低、中、高三档
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plasma 等离子 清洗机
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等离子体修饰系统
等离子体修饰系统,利用卓聚自创的三温区管式炉,通过氧气辅助化学气相沉积技术,在蓝宝石衬底上外延生长了大尺寸、高质量的单层二硫化钼薄膜。在生长过程中引入氧气,不仅能够有效的阻止三氧化钼源中毒,降低形核
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plasma去胶,等离子清洗原理
等离子产生原理:等离子技术可以分为大气常压、辉光 两种类型。 对于不同的类型,均发展出相关的应用。 1.大气等离子清洗机的优势: 通常采用空气作为发生气体。特点是气体的需求量非常高,工业上常用
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