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聚焦离子束系统
操作系统上的SmartSEM操作界面。由鼠标,键盘,操作杆控制或控制板(可选) 这是一台zei新设计的聚焦离子束系统,具备高分辨率成像功能。它由电子束系统(SEM)和离子束系统(FIB)组成,可以
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日本电子 JIB-4600F 聚焦离子束
主要特点:? 浸没式热场发射电子枪提供高稳定的电子束束流,与最佳光栏角控制透镜配合获得高分辨图像. ? 电子束大电流高速分析电子束最大束流强度200nA ? 离子束大电流模式 加工速度很快
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日立高新FB2200聚焦离子束系统
) 可制作出极微小的精度高的薄膜样 效率高,精度高,质量高 1、60nA离子束电流,提高了样品制备效率 2、原位低加速电压,使样品制备损伤率更低 3、采用日立zl超薄样品制备技术
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JIB-4610F聚焦离子束双束(FIB)
仪器简介:JIB-4610F是集成扫描电镜和聚焦离子束于一身高性能仪器。电子光学系统采用场发射电子枪,对进行实时研磨监控。该仪器又是一个微区观察、样品分析、微区研磨的集合体,应用范围广泛
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聚焦离子束扫描电镜—GAIA3 XMU/XMH
高达200nA的束流强度停留时间低至20ns的快速电子束刻蚀速度FIB的Cobra光学系统,确保聚焦离子束极高的分辨率和优异的性能,离子束流为1pA到50nATESCAN GAIA3电镜系统完美
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TESCAN 聚焦离子束扫描电镜 LYRA3(XM)
基于高分辨率肖特基FEG-SEM镜筒和高性能聚焦离子束镜筒,LYRA3 FIB-SEM是一款SEM与FIB良好结合的一体化系统,能够满足高要求客户的需要。 TESCAN
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聚焦离子束(FIB)微型采样系统用于STEM分析
可达到0.1 µm以下。特点聚焦离子束(FIB)微采样装置和聚焦离子束(FIB)微采样方法聚焦离子束(FIB)微柱状制样实例一个微柱状样品,包含一个直接从半导体器件上准确地切割下来的分析点。改变入射
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日本电子JIB-4500聚焦离子束扫描电镜
FIB 分辨率: 5nm, 30kV SEM分辨率: 2.5nm, 30kV (LaB6) SEM加速电压:0.3k~30kV SEM放大倍数:5~30万倍 样品台: X/Y 76
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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
)原位样品提取系统 (EM-02230) JIB-4000聚焦离子束加工观察系统配置了高性能的离子镜筒(单束FIB装置)。被加速了的镓离子束经聚焦照射样品后,就能对样品表面进行SIM观察 、研磨
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日立高新NB5000聚焦离子束&电子束装置
entry stage is ordered 超高性能聚焦离子束和超高分辨率场发射电子显微镜融合使得样品制备、高分辨观察、分析以及精准纳米尺度加工成为可能。 Hitachi's
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