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拉曼光谱分析衬底材料CaF2晶体
拉曼光谱分析衬底材料CaF2晶体精选CaF2基材专门为拉曼光谱分析制造. 在进行拉曼光谱分析研究时,研究人员所选的基材有必要尽量减小对实验结果的影响。筱晓光子提供的拉曼级CaF2基片是专门为做
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拉曼光谱分析衬底材料CaF2氟化钙窗片
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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
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MOCVD
MOCVD设备将Ⅱ或Ⅲ族金属有机化合物与Ⅳ或Ⅴ族元素的氢化物相混合后通入反应腔,混合气体流经加热的衬底表面时,在衬底表面发生热分解反应,并外延生长成化合物单晶薄膜。 在衬底表面发生热分解反应
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
技术指标1、沉积室8”CF泵口。8”CF衬底加热器端口。8“CF的目标2、旋转端口可编程导电衬底加热器加热器最\高温度:950℃。最\大加热器尺寸:直径2英寸(其他尺寸为定制)。3、抽真空
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层
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PLASSYS 超高真空多腔体电子束蒸镀系统
预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T 蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW;样品台:可加载4英寸衬底; 衬底可加热到800
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氮化铝(AlN)薄膜
产品名称:氮化铝(AlN)薄膜产品简介:AllN Epitxial范本saphhire提出了氢化物气相外延(HVPE)的方法。氮化铝薄膜又是成本效益的方法,用来取代氮化铝单晶衬底。科晶真诚
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等离子体修饰系统
等离子体修饰系统,利用卓聚自创的三温区管式炉,通过氧气辅助化学气相沉积技术,在蓝宝石衬底上外延生长了大尺寸、高质量的单层二硫化钼薄膜。在生长过程中引入氧气,不仅能够有效的阻止三氧化钼源中毒,降低形核
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离子辅助脉冲激光沉积系统 Ion-Assisted PLD System
离子辅助沉积PLD已经成为在无规取向的基片或非晶衬底上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。该系统将 PLD 在沉积复杂材料方面的优势与 IBAD 能力结合在一起。 特点独立的交钥匙离子束辅助
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