-
光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
-
Ushio 手动光刻机
*产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH;Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和
-
DMD无掩膜光刻机
产品简介 DMD无掩膜光刻机高速、广范围、低价格DMD式无掩膜光刻机! AU-PALET光刻机是一款紧凑的DMD式无掩膜光刻机拥有高速、广范围、低价格、高分辨率、操作简单和可靠性高等特点
-
美国OAI光刻机 5000E
型号: 5000E OAI 5000E型大面积掩光刻机是一种先进的高性能,全自动掩模对准器和曝光工具,可为大型平板应用提供超精密,顶级,亚微米对准和分辨率。 美国OAI
-
小型台式无掩膜光刻机
Microwriter ML3基本型增强型旗舰型 最大样品尺寸155×155×7mm155×155×7mm230×230×15mm 最大直写面积149mm x 149mm149mm x
-
EVG620系列单面/双面光刻机
EVG620系列单面/双面光刻机 一、 简介 EVG公司成立于1980年,公司总部和制造厂位于奥地利,在美国、日本和台湾设有分公司,并在其他各地设有销售代理及售后服务部,产品和服务遍及
-
光学正面和背面光刻机OAI 800型
型号: OAI 800 OAI模型800光刻机是半自动,four-camera、光学正面和背面光刻机。 800型光学正面和背面光刻机系统 OAI模型800光刻机是
-
WOP的3D激光光刻机nSCULPTOR
秒激光系统和光学组件,激光微加工车间,激光微加工自动化软件,定制激光系统和设备控制电路。3D激光光刻机 nSCULPTORnSCULPTOR是用于纳米结构加工的3D激光光刻系统,基于多光子聚合(mPP
-
进口PH仪
技术参数:进口PH仪技术参数: ■ 量测范围:-2.00~+16.00 pH/-2.000~+16.000 pH -1999~+1999
-
AirClean进口配件
AirClean Systems为各种无管通风柜,工作台和超净台均配有专用的防化学腐蚀材料的坚固推车和架子,所有推车和架子的普通特征为两个位置的底座,便于实验椅的使用。聚丙烯架子为可选配件,能在推车和
-
1.
质谱中标盘点 三个品牌占据一半市场
-
2.
2023仪器产业营收超1万亿,这些仪器公司增长显著
-
3.
阿尔塔科技质量总监徐银分享:质谱领域全面探讨,临床质谱前沿揭秘
-
4.
2024年第一季度微波消解仪中标盘点,三大品牌占八成市场
-
5.
天津发布推动大规模设备更新和消费品以旧换新实施方案
-
6.
精神类治疗药物浓度监测室间比对评价中心挂牌仪式
-
7.
精神类药物LC-MSMS检测标准化方法学 临床应用专家共识起草工作组建立
-
8.
青岛启动国家重点研发计划科学仪器项目
-
9.
被印度“围剿”的中国CAR-T:不仅是药企不“争气”
-
10.
“天都”来袭,国仪量子比表面积及孔径分析仪Climber 60震撼发布
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net