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XBS 分子束外延沉积速率监测/控制系统
接受孔,也可为特殊使用者配置·分子束研究中,检测极限低至30 ions/s·监测生长速率:1Å / min,或更低 Hiden的XBS系统通过实时信号输出对多个来源进行现场监测,以精确控制沉积
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激光分子束外延系统 MC-LMBE / PAC-LMBE
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HALO 201 MBE 分子束外延残余气体分析四极质谱仪
检测分压:2 x 10-13 mbar·最大工作压力:1 x 10-4 mbar 用于泄漏探测、趋势分析、真空诊断的过程监测和残余气体的精确分析。 仪器简介:HALO 201 MBE 分子束外延
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HPR-60常压分子束取样质谱仪
子和离子能量分布。用于进行等离子体放电过程中的反应动力学、气体分析和团簇分析。 HPR60 常压分子束取样质谱(Molecular Beam Sampling Mass Spectrometer
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LED外延式芯片保存柜
工艺电子器件:精密芯片,LED外延式芯片,LCD,BGA,精密光学仪器及光学元件,镀金铜线等;该系列产品被大量应用于在无尘净化车间电子器件及材料的安全防氧化保管。 应用于微电子及光电子工艺电子器件
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分体式精密冷冻机(冷水机
都使用进口产品,可靠性高。蒸发器采用纯钛金属或不锈钢板换制成,耐腐蚀、抗冻。广泛用于扫描电镜、原子吸收、ICP、激光器、真空镀模机、离子刻蚀 机、氧氮分析仪、透射电镜、衍射仪、劳光光谱仪、离子束外延
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伯东Pfeiffer分子泵 Hipace 400
、Inspection、MBE、Loard-Locks上海伯东客户分子泵应用一:Hipace 80,Hipace 400 用于分子束外延 MBE,主要针对金属薄膜及材料器件的氧化物外延生长。涡轮分子泵
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业纳Jenoptik外延片生长服务
这些外延片可以用以制备如下器件:- 半导体激光器: 波长范围630 - 1,200 nm- 面发射器件:VCSELs 和 VECSELs- 发光二极管:RCLEDs
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水冷机
)、透射电镜(TEM)、核磁共振仪(NMR)、真空镀模机、材料疲劳试验机、离子束外延设备(IBE)、分子束外延设备(MBE)、MOCVD、大功率激光器、等离子刻蚀机、大功率真空钎焊炉等均可配套。
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MagSput 磁控溅射系统
来增加磁控枪、热阻源或电子束蒸发源。典型应用包括纳米技术、光学仪器、显微镜、分子束外延、功能薄膜和装饰性涂层等。主要特点: Torr international, Inc(拓尔国际)Magsput系列
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