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Fischione 离子减薄仪 1051
最大样品尺寸直径3mm减薄角度-15°~+10°离子能量100eV~ 10keV产地属性美洲价格范围100万-150万 本产品同时具备高能量(快速抛光)和低能
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GL2011离子减薄仪离子抛光仪
产品名称离子减薄仪离子束加速电压0-10KV 连续可调最大束流密度大于 200μA/cm减薄速度 ( 铜)30μ/h(最大)样品对离子束的倾角5-90°(普通台) 0-90°(精细抛光台
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ZB-YQ69离子减薄仪
产品编号ZB-YQ69产品名称离子减薄仪离子束加速电压0-10KV 连续可调最大束流密度大于 200μA/cm减薄速度( 铜 )30μ/h(最大)样品对离子束的倾角5-90°(普通台)0-90
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美国进口 SBT 楔入式三脚抛光器-离子减薄
三脚抛光器(Tripod Polisher又名楔入式抛光器、抛光具)由IBM公司科学家设计,是一款用于SEM和TEM电镜制样的精密仪器。它大大降低了样本对离子减薄的依赖,缩短了制备时间,某些
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Fischione 微束定点离子减薄系统 1040
Fischione微束定点离子刻蚀仪(型号:1040)主要技术参数:1、加工离子能量范围需包括:50eV ~ 2keV;2、离子束束斑尺寸:≤1μm,可精确定位制备样品;3、样品台倾转角
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Gatan 695.C/PIPS II 系统离子减薄仪
仪器介绍:名称:离子减薄仪品牌:美国Gatan型号:695技术参数:离子源离子枪 两个潘宁离子枪与微型稀土永磁体减薄角度 +10° 到 -10°,每个离子枪均独立可调节离子束能量 100eV 到
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德国徕卡 全自动离子减薄仪 EM RES102
(如下右图)。 LEICA EM RES102 -多功能离子减薄仪 徕卡EM TXP/EM RES102 应用于TEM一个封装集成电路样品,经徕卡EM TXP制备成直径3mm,厚度40μm的截面
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磁力驱动电解双喷减薄仪
产品编号ZB- MT3000产品名称磁力驱动电解双喷减薄仪电压:0-100V电流0-100mA常用附件 电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法之一。电解抛光减薄是制备金属薄膜最常用的方法
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TJ100-SE电解双喷减薄仪
电解双喷减薄仪主要特点触摸屏式人机界面:TJ100-SE采用7英寸全彩触摸屏控制,操作方便,简单易用。良好的人机界面设计,数据直观,电解质温度、电流变化曲线实时显示。参数存贮调用功能:对每次操作设置的
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凌博 ETP1 电解双喷减薄仪
制备的专用设备。 电解双喷减薄仪 ETP1电解双喷技术 电解双喷仪是应用于透射电子显微镜金属试样制备的专用设备。通过低温环境下的电解与抛光作用,金属样品发生减薄并穿孔,形成大面积的薄区,以便使
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