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低温等离子体刻蚀设备
等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处: 1、其除去了有机
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牛津Oxford等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE
等离子体刻蚀机PlasmaPro 80 RIE PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能
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IMP-EPD 等离子体刻蚀终点检测仪
参数:• 高灵敏度的 SIMS/MS,带脉冲离子计数检测器• 三级过滤四极杆,标准配置质量数为300 amu• 稳定性(24h以上,峰高变化小于 ±0.5%)• 通过 RS232、RS485或以
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进口PH仪
技术参数:进口PH仪技术参数: ■ 量测范围:-2.00~+16.00 pH/-2.000~+16.000 pH -1999~+1999
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AirClean进口配件
AirClean Systems为各种无管通风柜,工作台和超净台均配有专用的防化学腐蚀材料的坚固推车和架子,所有推车和架子的普通特征为两个位置的底座,便于实验椅的使用。聚丙烯架子为可选配件,能在推车和
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GaSe(进口料)
产品名称:GaSe(进口料) 技术参数:摩尔质量(molar mass) 148.69 g/mol密度:5.03 g/cm3熔点:960 °C, 1233 K, 1760 °FBand
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牛津仪器等离子体增强化学气相沉积系统(PECVD) PlasmaPro 100
该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度范围。 具有zei大的工艺灵活性,适用于化合物半导体
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牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100
牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度
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进口热风循环烘箱
德国memmert美尔特烘箱,进口烘箱,进口干燥箱,美尔特烘箱,德国烘箱 型号 100 200 300 400 500 600
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进口制冷循环机
冷却方式相比,Huber Unichiller 系列制冷器提供更高效率,稳定的压力和传递性能,以及恒定的冷却水温度。降低水耗量,保护环境,降低操作成本。适用于化学反应中散热,制冷技术设备,以及
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