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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。 GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的
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Autoconcept GD90高分辨辉光放电质谱仪 GDMS
原子化和离子化过程发生在不同区域,带来可忽略的基体效应。·低至亚ppb级的定量数据。·具有深度剖面同位素比值分析能力。·zei少的样品制备过程。特定的应用领域:金属和合金超纯材料半导体材料非导体材料
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SOLIS-500激光进样系统
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日本电子JIB-4500聚焦离子束扫描电镜
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GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪
各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。 产品简介:GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种
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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
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蔡司(ZEISS) EVO 18钨灯丝系列扫描电镜
您提供卓越的成像质量。配备X射线能谱仪接口,并有领先的X射线几何条件对所有样品提供了zei精确的分析。对于非导体采用电子束衬管技术也提高了图像质量和分析精度。 【产品应用
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HORIBA GD Profiler 2射频辉光放电光谱仪
标准。分析通道5~47个分辨率18pm~25pm测量深度几纳米~150微米测定精度主元素RSD小于0.4% GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体
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PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪
的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定,从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的深度分析,样品例子如催化剂,金属和
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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
材料。因此,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。 产品型号GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪安装条件本设备要求在海拔1000m以下,温度25℃±15
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