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cvd和pvd分别代表什么
具有更好的性能。 PVD基本方法:真空蒸发、溅射 、离子镀(空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反应离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀)。
2022-03-03来源: 互联网 -
离子镀的特点
2022-07-12来源: 互联网 -
物理气相沉积的详述
2023-02-22来源: 互联网 -
与真空镀膜相比,离子镀膜有哪些优点
2022-07-12来源: 互联网 -
不同类型镀膜机的适用范围介绍
2021-10-18来源: 网络 -
表面处理工艺有哪几种
2023-04-25来源: 互联网 -
物理气相沉积(PVD)技术简介
2021-04-14来源: 网络 -
等离子处理(plasmacleaner)这个东西逆天了,它咋这么牛呢
2020-07-06来源: 华仪行(北京)科技有限公司 -
真空镀膜技术简介
2023-01-30来源: 互联网 -
真空镀膜的方法介绍
沉积薄膜的过程。(4)离子镀:实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合,兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
2023-01-30来源: 互联网
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