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根据IUPAC分类,孔分三种,尺寸小于 2 nm的叫微孔(micropore); 尺寸大于50 nm的 叫大孔(macropore); 介于 2 nm 和 50 nm 之间的叫做中孔或者介孔 ( mesopore)。在有些文献中会提到纳孔(nanopore)这个概念,这其实不是根据孔分类标准采用的称呼,可 以包括以上三种孔,但一般上限为100 nm.
来源:麦克默瑞提克(上海)仪器有限公司
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资料
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摘要 利用M arkov 链模型对蛋白质可溶性特性进行统计建模, 按照蛋白质序列中残基的相对可溶性, 将其分为两类(表面ö内部) 和三类(表面ö中间ö内部) 进行预测。选择不同MCM 阶数和分类阈值对数据进行训练和预测,以确保得到最好的
来源:L120623
资料
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摘要 利用M arkov 链模型对蛋白质可溶性特性进行统计建模, 按照蛋白质序列中残基的相对可溶性, 将其分为两类(表面ö内部) 和三类(表面ö中间ö内部) 进行预测。选择不同MCM 阶数和分类阈值对数据进行训练和预测,以确保得到最好的
来源:fzdxlfw
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半导体缺陷检测分类无利用原子力显微镜进行的自动缺陷复检通过纳米级的分辨率在三维空间中可视化缺陷。因此,纳米级成像设备是制造过程的一个重要组成部分,它被视为当今半导体行业中最理想的技术。 结合原子力显微镜的三维无创成像,使用自动
来源:Park帕克原子力显微镜
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应用
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统的自动光学检测(AOI)无法在该范围内达到足够的分辨率,进而损害定量成 像和随后的缺陷分类。 而原子力显微镜 (AFM) 自动缺陷复检 (ADR)技术则有 效地解决了该问题。该技术利用 AFM 常用的纳米分辨率,能够在三维空间中可 视化缺陷,大大减少了缺陷分类的不确定性。 因此,ADR-AFM 成为了当今半导 体行业缺陷复检最理想的技术。
来源:Park帕克原子力显微镜
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应用
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吸入制剂质量控制研究技术指导原则
目 录
一、概述…………………………………………………………………2
二、吸入制剂的分类……………………………………………………3
三、质量控制研究
来源:piaoliang110mei
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利用原子力显微镜进行的自动缺陷复检可以以纳米级的分辨率在三维空间中可视化缺陷,因此纳米级成像设备是制造过程的一个重要组成部分,它被视为半导体行业中的理想技术。结合原子力显微镜的三维无创成像,使用自动缺陷复查对缺陷进行检测和分类。伴随光刻
来源:Park帕克原子力显微镜
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附录二 国标《高效过滤器》(GB13554)的高效过滤器分类
附录三 国内一般空气过滤器与国外产品的分类比较
附录四 2008年报批的空气过滤器国标的过滤器分类
附录五 2008年报批的高效空气过滤器国标的过滤器分类
附录六 一种超低阻高中效过滤器性能
附录七 一种可自动清洁超低阻净化新风机组性能
来源:fengyan22
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条令的监督与监管。因此香精香料生产企业需要测定产品的闪点值,然后根据产品的闪点值来了解和划分产品的可燃危险品等级。然后进行相应的存储分类和运输分类。 《危险品分类标准》中规定了易燃液体具体闪点指标。危化品第三类包括易燃液体中的低闪点液体
来源:上海人和科学仪器有限公司
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应用
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。【作者单位】:河北省体育科学研究所 河北石家庄050011【关键词】:气质联用;三氯蔗糖;合成【分类号】:TS264.9【DOI】:CNKI:SUN:ZPXB.0.2007-02-005【正文快照】: 4,1,6-三氯-4,1,6-三脱氧半
来源:bluedays
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