且浅的腐蚀坑, 这样的结构使光在腐蚀坑里往返次数不多, 导致光反射率大, 不利于光的收集, 实验测量反射率高达41%。但按这个配方长时间腐蚀多晶硅片, 硅表面没有出现峡谷式的腐蚀通道。 四.硅片制绒液检简单工艺: 4.1 两步酸
来源:hechuanjishu 资料
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