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利用扫描电镜观察氢氧化钾蚀刻制备的硅微观结构
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TRILOS超高压纳米均质机在石墨烯分散中的应用
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利用扫描电镜观察氢氧化钾蚀刻制备的硅微观结构
蚀刻剂和被移出材料之间的相互作用所造成的: 是这项技术最薄弱的一点。图1: 生成的基体横截面示意图,(a) 完美各向异性的侵蚀,(b)一个完全各向同性的侵蚀,(c)一个湿蚀刻的各向异性腐蚀剂
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LA-icpTOF质谱仪用于采集南极冰芯中的元素分布成像
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如何获得更好的氧化石墨烯红外光谱图
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RoHS行业综合解决方案(二
预约关机, 关机前可设定声光提示 技术参数 测量元素范围:硫(S)~铀(U) 测量时间:1s或以上 检出限:分析检出限可达2ppm,最薄可测试0.005μm 含量范围:2ppm~99.9
来源:江苏天瑞仪器股份有限公司 应用
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汽车行业解决方案(一
: 测量元素范围:硫(S)~铀(U) 测量时间:1s或以上 检出限:分析检出限可达2ppm,最薄可测试0.005μm 含量范围:2ppm~99.9% 稳定性:0.02% 管压:5
来源:江苏天瑞仪器股份有限公司 应用
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