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实验室只有一台XPS,我想做一下元素随深度的分布以及比例,但看了些文献,用AES的较多。我们的XPS也有刻蚀功能,是k-alpha,avantage的。我想知道,用XPS和用AES有什么主要区别呢?,XPS 挺常用的啊,AES比较浅,信息深度,对AES了解比较少,如果刻蚀的深度比较浅用AES,比较深
2015年03月03日发布人:ass
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[size=2]催化剂为lk-CuPd, 及其使用后的催化剂,图中有Cu的能谱峰和俄歇峰,从Bing Energy看 使用前的催化剂为Cu2+,有少量的Cu0和Cu+, 使用后的催化剂中有大量的Cu+和Cu0,但是在俄歇中我怎么分析Cu+
2016年03月19日发布人:豆荚
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本人有一个薄膜样品,想做俄歇电子能谱分析,不知道成都哪里可以做,望达人指点.谢谢,以前开会的时候记得四川好像有个地方能做
我给你查查,不知道132厂能不能.,呵呵,多谢了哈。
2016年01月29日发布人:adg
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做了个C/C复合材料样品,想了解其炭基体和炭纤维界面处的结合强度,通过力学性能测试以后的SEM好像可以,但是感觉不够深入,请问有更好的表征方法没?,可以做做纤维的单丝拔出。根据拔出纤维的长度,可以确定界面作用力的大小。,那如果是粉体和树脂
2016年03月13日发布人:美人鱼
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做了个C/C复合材料样品,想了解其炭基体和炭纤维界面处的结合强度,通过力学性能测试以后的SEM好像可以,但是感觉不够深入,请问有更好的表征方法没?,可以做做纤维的单丝拔出。根据拔出纤维的长度,可以确定界面作用力的大小。,那如果是粉体和树脂
2016年04月30日发布人:zouyou
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[size=2]催化剂为lk-CuPd, 及其使用后的催化剂,图中有Cu的能谱峰和俄歇峰,从Bing Energy看 使用前的催化剂为Cu2+,有少量的Cu0和Cu+, 使用后的催化剂中有大量的Cu+和Cu0,但是在俄歇中我怎么分析Cu+
2016年02月17日发布人:松子儿
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我的试样是被氧化了的涂层试样,想知道氧化层的成分分布。我看到有的文献中采用的是俄歇电子进行测试的。采用俄歇电子进行测试的时候,电子是从涂层的表面往下打,还是像做EDS线扫描一样,需要先制备涂层的截面试样呢?
还需要对试样进行什么
2015年12月26日发布人:rrra6
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PH计的复合电极怎么样判断需要更换了?谢谢!,首先是测量不准确,其次是测量数值变化缓慢,到终点持续波动!,1、校正时斜率低于90%
2、测量测量的准确度可用标准缓冲溶液进行判断,注意温度校正。,漂移太大就换,如果使用一年没问题也换。,看
2010年11月27日发布人:dongyingl
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方法,则可以实现对样品的深度分析。固体样品中除氢、氦之外的所有元素都可以进行XPS分析。[/size]
[size=3] 2.俄歇电子能谱法(AES)作为一种最广泛使用的分析方法而显露头角。这种方法的优点是:在靠近表面5-20埃范围内
2013年12月21日发布人:santa
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请问双金属复合板材怎么检测。外层是碳钢,内层是镍基合金。应该用什么检测方法呢?,谢谢您,但您找的和我需要的不一样,我要的是两种不同材料的检测方法,总之是要谢谢您!
PS:怎么给您金币啊?,可以做做纤维的单丝拔出。根据拔出纤维的长度,可以
2016年03月13日发布人:大花猫bb