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[size=3][color=#0000a0] 准备衍射仪用的样品试片一般包括两个步骤:[/color][/size]
[size=3][color=#0000a0] 首先,需把样品研磨成适合衍射实验用的粉末;[/color
2009年10月25日发布人:wtz010
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循环水挂片点蚀的原因,试片安装位置、周边水流状态、冷却水的缓蚀阻垢剂的实际使用效能甚至试片本身的材质以及试片事前的预处理等等多种条件都会影响到试片的腐蚀情况,具体情况需要分析才知,两张照片不说明什么问题。,应该是循环水浊度高,造成粘泥在挂
2015年06月23日发布人:巅峰时刻#-#
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请问各位先进以我的情况,可以作XRD吗?情况如下我的试片表面上有少许的粉末,我想知道这个粉末的晶格结构最好的办法是将这个粉末拿去作powderXRD但困难在于我没办法生产出足够的粉末量去做powderXRD因此我想到用比较迂回的方法拿得
2016年04月10日发布人:vbnm
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后,情况改观。有知道原因的大神帮助下。
ps:片子是空白测试片,99%的乳糖和1%的硬脂酸镁,有一个情况需要提一下,就是颗粒在厂房里放置了数天。
压片机使用的是南京菲特使用的3030压片机,测下水分看看,是不是吸湿了?,顶下
2014年03月02日发布人:但是
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各位大侠,请教下单晶硅TEM试片厚度如何用EELS计算?Si 的mean free path 是多少?,好像是这个Script,[url]http://www.dmscripting.com/eelstools.html[/url],下载
2016年04月09日发布人:nsdm
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,SEM,TEM还不够么?,还是TEM,AFM最直接方便。光散射都是间接的测试,并且不能用于测试片状物质的尺寸。SAXS的话,理论更深奥,不适合只是获取尺寸大小而采用该方法。,TEM, FESEM足够可以表征,光散射好像需要溶解在溶剂中,一般是
2016年04月29日发布人:兔子
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各位大侠,请教下单晶硅TEM试片厚度如何用EELS计算?Si 的mean free path 是多少?,好像是这个Script,[url]http://www.dmscripting.com/eelstools.html[/url],下载
2015年04月11日发布人:但是
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,SEM,TEM还不够么?,还是TEM,AFM最直接方便。光散射都是间接的测试,并且不能用于测试片状物质的尺寸。SAXS的话,理论更深奥,不适合只是获取尺寸大小而采用该方法。,TEM, FESEM足够可以表征,动态光散射好像需要溶解在溶剂中
2015年08月31日发布人:双子座
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请问各位先进以我的情况,可以作XRD吗?情况如下我的试片表面上有少许的粉末,我想知道这个粉末的晶格结构最好的办法是将这个粉末拿去作powderXRD但困难在于我没办法生产出足够的粉末量去做powderXRD因此我想到用比较迂回的方法拿得
2016年03月05日发布人:shuishui
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,SEM,TEM还不够么?,还是TEM,AFM最直接方便。光散射都是间接的测试,并且不能用于测试片状物质的尺寸。SAXS的话,理论更深奥,不适合只是获取尺寸大小而采用该方法。,TEM, FESEM足够可以表征,动态光散射好像需要溶解在溶剂中
2016年03月21日发布人:p1900