于从化学气相沉积(CVD)石墨烯或碳酸膜中蚀刻出铜残留物或箔。中文名:铜蚀刻剂英文名:Copper etchant英文别名:Copper etching solution货号:C487577产品介绍:铜喷涂蚀刻剂(CE-200)使用方便
速率为4 mm/s,可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。应用该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN,但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响用于室温或高温条件。蚀刻干净,省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的
Cytiva美国 Nuclepore黑色染色聚碳酸酯膜是适用于使用落射荧光显微镜的应用的高性能膜。黑色膜大大降低了背景荧光,从而改善了微生物和颗粒的可见度。将这些膜与落射荧光技术结合使用
沃特曼 Nuclepore™经济蚀刻聚碳酸酯膜,由高质量聚碳酸酯薄膜制成,孔径精确、流速高,卓越的抗化学
Tungsten etchant上海阿拉丁生化科技股份有限公司阿拉丁中国钨腐蚀剂是一种基于氢氧化钾和铁氰化钾溶液的混合物,可通过将基底浸入蚀刻溶液中而有助于将钨和铝等材料进行去除。应用半导体和微电子技术中钨薄膜金属化的选择性蚀刻剂。蚀刻剂
安捷伦美国窗口蚀刻工具是为在熔融石英毛细管上快速、方便、重现性地准备检测窗口而设计的。去除聚酰亚胺涂层,又丝毫无损内部的聚合物涂层。它包括划出凹槽的三个玻璃片,精确控制窗口的大小。 窗口蚀刻工具是为在熔融石英毛细管上快速、方便、重现
Cytiva美国 Whatman径迹蚀刻聚碳酸脂膜,可用于细胞培养应用。 ,
Buffered oxide etchant (BOE) 10:1上海阿拉丁生化科技股份有限公司阿拉丁中国缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)薄膜。它是一种
沃特曼 细胞培养和趋药性应用 Whatman提供径迹蚀刻聚碳酸酯膜用于细胞培养。 特点 ·细胞对化学刺激物的趋向迁移分析 ·薄而均一的圆柱形空有利于细胞的快速迁移 ·减少培养时间,无需灭菌 ·无润湿剂膜(无PVP膜)增强细胞的粘附(如,嗜中性粒细胞趋药性)
Buffered oxide etchant (BOE) 6:1上海阿拉丁生化科技股份有限公司阿拉丁中国缓冲氧化物蚀刻剂(BOE)是一种用于微细加工的液体腐蚀剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅(SiO2)或氮化硅(Si3N4)的薄膜。它是氟化
祝贺!第十五届光华工程科技奖获奖名单公布,这41名专家获奖
安捷伦在ASMS:智能推动性能 挑战极限应用
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