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ArF光刻胶
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料,按照一定的
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具有ActiveWell技术的MassPREPPROtarget靶板
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SWAFER微通道流路微板技术
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ICP-MS配套PFA容量瓶250ml激光刻线螺纹口密封性更好
ICP-MS配套PFA容量瓶250ml激光刻线螺纹口密封性更好随着越来越多的痕量分析实验需要对ppb和ppt级的浓度进行测定。目前所使用的一般材料由于无
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GlykoPrep 技术
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BIP®内置气体纯化技术
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AdvanceBio Gly-X 技术
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美国Futurrex公司NR9-1000PY负性光刻胶
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GlykoPrep-plus 技术
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ARF photoresist
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