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ArF光刻胶
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料,按照一定的
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Edmund极紫外 (EUV) 二向色滤光片
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Edmund极紫外平面反射镜
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紫外检测器
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收集极COLLECTOR,FID-2010用于GC-2010
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八极管组件OCTAPOLE ASSY用于LCMS-2010
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收集极FTD-8 COLLECTOR用于GC-2014/2014C
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Edmund极紫外 (EUV) 球面反射镜
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抵制极REPELLER+(HEAT TREATMENT),用于GCMS-TQ8030
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收集极FTD COLLECTOR,TOKUGATA用于GC-2014/2014C
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