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PCB曝光钉
用途:PCB曝光钉为双面、多层印制板光成像图形转达移曝光专用定位钉 PCB曝光钉特点:偏差:+0.005/-0.02mm 钉头:平头或尖头/圆形
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Glogos II Autorad 标记物
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ARF photoresist
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料,按照一定的
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ArF光刻胶
光刻胶是一种有机化合物,它被紫外光曝光后,在显影溶液中的溶解度会发生变化。硅片制造中所用的光刻胶以液态涂在硅片表面,而后被干燥成胶膜。光刻胶主要是由树脂、感光剂、溶剂及添加剂等不同的材料,按照一定的
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waters 沃特世 C18 XSelect HSS和CSH XP色谱柱 186006107
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waters 沃特世 C18 XSelect HSS和CSH XP色谱柱 176002892
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waters 沃特世 C18 XSelect HSS和CSH XP色谱柱 176002891
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waters 沃特世 C18 XSelect HSS和CSH XP色谱柱 186006728
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waters 沃特世 C18 XSelect HSS和CSH XP色谱柱 186006727
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waters 沃特世 C18 XSelect HSS和CSH XP色谱柱 176002594
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