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原子层沉积(ALD)Picosun
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原子层沉积(ALD)Picosun
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沉积系统牛津仪器
OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积(ALD)设备,其中包含等离子体选项。它可以轻松升级为等离子体ALD,实现在一个紧凑的设备中结合等离子体和热ALD。这款紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备
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半导体检测仪原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀
点击查看下载半导体检测仪原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀相关资料,进一步了解产品。 牛津仪器PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀
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原子吸收原子吸收光谱仪赛默飞 可检测土壤和沉积物
赛默飞原子吸收iCE 3500可以用在土壤行业领域,用来检测土壤和沉积物,可完成测定土壤和沉积物中铅元素含量项目。符合多项行业标准《土壤污染防治行动 计划》。 2016 年 5 月 28 日,国务院
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 ProPicosun
PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200 Pro(PICOSUN™ALDR-200S Pro)原子层沉积系统(ALDP-200)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro
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原子层沉积系统ALD
3D结构实现均匀薄膜覆盖,可实现微纳深孔内部的均匀沉积,是先进电池材料、催化剂材料、半导体器件研究与应用的最佳仪器。技术参数腔室真空度:≤ 5 Pa真空系统:抽速14L/S,从大气抽至5Pa,≤15
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原子层沉积系统(ALD)
仪器简介:原子层沉积(ALD)简介: 原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD),zei初称为原子层外延(Atomic Layer Epitaxy,ALE
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原子层沉积系统ALD
原子层沉积系统Atomic Layer Deposition System 产地:美国Angstrom;型号:Angstrom Dep II, Angstrom Dep III; 原子层沉积技术
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