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帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park NX-WaferAFM及扫描探针 应用于纳米材料
实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚埃级表面粗糙度控制半导体供应商正在开发超平坦晶圆,以解决不断缩小元件尺寸的需求。然而,从来没有一个计量工具
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AFM及扫描探针帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park NX-Wafer 可检测半导体
每次测量之后不需要复杂的背景去除或前处理。Park NX-Wafer实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚埃级表面粗糙度控制半导体供应商正在
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Park原子力显微镜AFM及扫描探针帕克 NX-Wafer 原子力显微镜 产品彩页介绍
,组合系统提供非常平坦的轮廓扫描,并且一般在每次测量之后不需要复杂的背景去除或前处理。Park NX-Wafer实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度
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Park原子力显微镜Park NX-WaferAFM及扫描探针 应用于电子/半导体
提供非常平坦的轮廓扫描,并且一般在每次测量之后不需要复杂的背景去除或前处理。Park NX-Wafer实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚
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Park原子力显微镜AFM及扫描探针帕克 NX-Wafer 原子力显微镜 应用于电子/半导体
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帕克 NX-Wafer 原子力显微镜AFM及扫描探针Park NX-Wafer 利用原子力显微镜对半导体制造中的缺陷进行检测与分类
每次测量之后不需要复杂的背景去除或前处理。Park NX-Wafer实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚埃级表面粗糙度控制半导体供应商正在
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帕克 NX-Wafer 原子力显微镜Park NX-WaferPark原子力显微镜 适用于表面测量
非常平坦的轮廓扫描,并且一般在每次测量之后不需要复杂的背景去除或前处理。Park NX-Wafer实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚埃级
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Park NX-WaferPark原子力显微镜AFM及扫描探针 应用于电子/半导体
测量之后不需要复杂的背景去除或前处理。Park NX-Wafer实现了前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚埃级表面粗糙度控制半导体供应商正在开发超
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Park NX-WaferPark原子力显微镜AFM及扫描探针 应用于纳米材料
前所未有的CMP测量,包括凹陷、侵蚀和边缘过度侵蚀(EOE)的局部和全局的平坦度测量。亚埃级表面粗糙度控制半导体供应商正在开发超平坦晶圆,以解决不断缩小元件尺寸的需求。然而,从来没有一个计量工具能够给
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帕克 NX-Wafer 原子力显微镜 线宽测量
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