-
半自动/全自动真空探针台
技术规格:1. 支持最大晶圆尺寸:200mm2. X-Y轴移动重复性:+/- 2 mm3. X-Y轴移动分辨率:100 nm4. Z轴移动重复性:+/-2mm,移动分辨率:100nm5. 可配置
-
全自动探针台
技术规格:1. 支持最大晶圆尺寸:300mm2. X-Y轴移动重复性:+/-1.5mm3. X-Y轴移动分辨率:5 mm4. X-Y轴移动速率:50mm/s5. Z轴移动重复性:+/-1mm
-
EPS-300手动探针台
产品规格:- 镀金真空样品吸盘:4英寸;- 样品尺寸:5x5mm ~ 4英寸;- 显微镜:立体显微镜;- 最大放大倍数:90X, 135X, 200X;- 样品卡盘平整度:10um;- 探针座
-
金刚刀划片机 - 适用于陶瓷、玻璃、硅片等
可旋转、带真空吸附样品台,最大样品直径200mm;X-Y工作台上每间隔90度备有定位V字槽;通过线性轴承的测微螺杆,精确细调角度;最小分辨率:0.006度,范围:4度;划片宽度:240mm,划线
-
共晶炉,真空烧结炉
RSO系列真空共晶炉、真空烧结炉,广泛用于激光、射频电路、功率器件等微电子光电子行业的晶粒贴装,以及金-硅合金,密集焊接和回流共晶。RSO系列共晶炉为德国生产,紧凑台式设计,可在氮气/甲酸等氛围
-
EPS-1000探针台
科研及半导体微电子器件的失效分析。 品牌:Ecopia;型号:EPS-1000;EPS-1000为韩国Ecopia最高端的手动探针台型号,适合科研及半导体微电子器件的失效分析。
-
匀胶机,旋涂仪
(优于DC马达); 匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。匀胶机可以用于制作低于10nm厚度的薄膜
-
大尺寸快速退火炉(12英寸) - 适合光伏样品
-
二维材料生长设备 (MoS2, h-BN, CNT等
技术规格如下:1. 石英管及工艺炉 QUARTZ TUBE & FURNACE - Tube Dimensions: ф100*1200mm - Furnace Body
-
NBM microPLD 脉冲激光沉积系统
技术参数:1. 靶:数量6个,大小1-2英寸,被激光照射时可自动旋转,靶的选择可通过步进电机控制。2. 基板:采用适合于氧气环境铂金加热片,大小2英寸,加热温度可达1200摄氏度,温度差
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net