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CVD用氢气发生器
HydroGen系列HG PRO 4000釆用新型长寿命多层PEM电解单元, 不使用酸性或碱性溶液。创新的PSA氢气干燥模块,确保最高等级的氢气纯度,完全免维护。 自动检查内部泄漏并持续控制运行参数
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CVD专用氢气发生器
Precision Hydrogen Trace氢气发生器主要为CVD、GC等应用而设计,也可用做FID和FPD等检测器的燃烧气。一台发生器可同时为多台CVD提供气源。
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石墨烯CVD制备设备
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多功能薄膜制备系统-Nano CVD
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Precision Hydrogen CVD
Precision Hydrogen CVDPeak可提供CVD用气解决方案所需的Precision氢气发生器1200cc、去离子水净化系统、8L水瓶及其他耗材。使用Peak的级联技术,其中
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滑动式二硫化钼CVD制备设备
滑动式二硫化钼CVD制备设备 滑动式二硫化钼CVD制备设备一、滑动式二硫化钼CVD制备设备概述硫粉预热器采用管内测控温以保证在250℃以下,稳定控制
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CVD系统
of gases for CVD or diffusion. Specifications: Furnace Structure •Double layer steel casing with air
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日本电子RF-120系列高频电源 CVD
(宽)×305毫米(深)×145毫米(高)这是用于等离子体生成的13.56MHz高频电源(RF电源),用于溅射、蚀刻、CVD和离子镀等薄膜制造和加工。RF-120系列是多功能电源,标配
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Precision Hydrogen CVD气体流速: 1200cc/min
Precision Hydrogen CVDPeak可提供CVD用气解决方案所需的Precision氢气发生器1200cc、去离子水净化系统、8L水瓶及其他耗材。使用Peak的级联技术,其中
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石墨烯CVD
应用: - 大面积石墨烯(Graphene )沉积:>150mm wafers 优势: - zei佳研发用 -低廉的价格 -沉积参数数字化控制 -加热和冷却时间可控 - 气体
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