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CVD系统
types of gases for CVD or diffusion. Specifications: Furnace Structure •Double layer steel casing
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金铠仪器 CVD反应装置JKCH-CVD
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1700CVD系统
,各种刚玉坩埚,刚玉管,计算机控制软件,无纸记录仪,氧含量分析仪,冷却水循环机等。可根据客户要求定制! YG-1706I-CVD系统由YG-1706管式炉、三路浮子混气系统、内置测温系统及真空系统等
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1200低真空CVD系统
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石墨烯CVD制备设备
这款配置的低真空CVD系统由1200℃真空管式炉,3通道气路系统和真空系统组成,可根据用户需要设计生产有双温区、三温区、多温区),可预抽真空(有高真空、低真空),通多种气氛(供气系统有质子流量
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1200加长双温区CVD系统
,计算机控制软件等保修期整机一年保修(相关耗材除外)可根据客户要求定制! 1200℃加长双温区CVD系统是由加长双温区管式实验电炉,多通道高精度质量流量计混气系统,高真空分子泵系统等组成。可实现真空
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多功能薄膜制备系统-Nano CVD
多功能薄膜制备系统-Nano CVD产品简介:NanoCVD系列台式设备是专为制备高质量的石墨烯与碳纳米管而开发的高性能台式CVD系统。在与诺奖级科研团队的长期合作中获得的丰富经验使该系列产品具有
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1200℃单/双温区CVD系统
CVD管式炉是利用气态化合物或化合物的混合物在基体受热面上发生化学反应,从而在基体表面上生成不挥发涂层的一种薄膜材料制备系统 CCVD管式炉由沉积温度控件、沉积反应室、真空控制部件和气
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滑动式二硫化钼CVD制备设备
主要技术参数硫粉预热器 型号:HTF-400C工作温度:350℃MAX温度:400℃MAX升温速率:30℃/min推荐升温速率:10℃/min控温方式:智能化30段可编程控制工作电压:AC220
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NextCVD多功能宽密度等离子体CVD
宽密度等离子体CVD(ICP-LP-PE-CVD)结合了电感耦合和电容耦合辉光放电的优点,可在宽密度工艺范围(109-1013 cm-3)实现稳定的等离子体辅助CVD,具有优良的材料处理性能和广泛的
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