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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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PECVD
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PECVD
仪器简介:美国NANOMASTER公司PECVD(等离子增强化学气相沉积)系统能够沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜和炭纳米管(CNT)等。可选
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PECVD MVS
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
产品简介:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好
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1200度小型PECVD系统
产品用途PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。产品组成PECVD系统配置;1.1200度开启式
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1200高真空PECVD系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体刻蚀和淀积工艺设备
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在线式HIT用PECVD MVS
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