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PECVD MVS
薄膜沉积设备PECVD MVS公司简介MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从师于斯皮尔(Walter
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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1200高真空PECVD系统
坩埚,石英管,计算机控制软件保修卡整机一年保修(相关耗材除外)可根据客户要求定制! 1200℃高真空PECVD系统通过滑动炉体来实现快速的升降温,配置不同的真空系统来达到理想的真空度;同时通过
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带有预热系统的滑动PECVD
升温速度(达到zei高温)20℃/min内部尺寸OD:100mm×ID:94mm×Leng1450mm加热方式掺钼铁铬铝合金(表面涂有氧化锆涂层,可延长使用寿命)zei大功率4KW控温精度±1
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在线式HIT用PECVD MVS
在线式HIT用PECVDIn-Line PECVD system for HIT junctions用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18
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4路质子混气管式PECVD系统
化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD), 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
、射频电源:频率 13.56MHz,最大功率500W,全自动匹配;9、.气体种类(用户提供),使用质量流量控制器控制进气。10、系统设有尾气处理系统(用户自备)。 GSL-PECVD-300化学气相
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瞬渺镀膜机 SiNx-PECVD
用于制备多晶硅太阳电池的氮化硅涂层沉积设备 MVSSilicon Nitride Coating Systems for Multi-crystalline Silicon Solar
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牛津Oxford等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD
等离子沉积机PlasmaPro 80 PECVD PlasmaPro 80是一种结构紧凑、小尺寸且使用方便的直开式系统,可以提供多种刻蚀和沉积的解决方案。 它易于放置,便于使用,且能确保工艺性能
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德国Sentech等离子体沉积机PECVD Depolab 200
Depolab 200 PECVD等离子体沉积工具打开盖子加载适用于200毫米晶圆基片温度可达400℃低应力薄膜可选低频混频干式抽油机占用空间小 Depolab 200是由SENTECH公司
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