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日本电子JBX-3050MV 电子束光刻系统 步进重复式的光刻系统
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ACQUITY UPC²液相色谱仪Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱 利用ACQUITY UPC2 应对半导体行业先进光刻材料 (光刻胶)开发与供应所面临的挑战
沃特世Waters ACQUITY UPC2 超高效合相色谱ACQUITY UPC²可用于测定光刻材料,适用于开发,供应项目。并且参考多项行业标准。可应用于电子/半导体行业领域。 背景
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帕克 SmartLitho™纳米光刻和纳米操作的智能化软件 对电气进行纳米光刻和纳米操作
SmartScan 可以自动进行成像所需的所有操作,并智能地确定最佳的图像质量和扫描速度。 Park的专有技术实现了SmartScan的自动化测量。可以帮助用户在最短时间内获得最佳的实验成果。
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帕克 SmartLitho™纳米光刻和纳米操作的智能化软件 对电子设备进行纳米光刻和纳米操作
SmartScan 可以自动进行成像所需的所有操作,并智能地确定最佳的图像质量和扫描速度。 Park的专有技术实现了SmartScan的自动化测量。可以帮助用户在最短时间内获得最佳的实验成果。
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JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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Agilent 热脱附 (TD) 分析技术
热脱附 (TD) 分析技术可用于测量空气、玩具、建筑材料、汽车车厢和食品中的挥发性污染物。该分析技术也能为法医学、国防和常规排放测试提供独特的分析。
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岛津GCMS NX系列智能钟技术
,可以最大程度减少因等待时间安排不合理而导致的停机时长。 ClickTek智能锁技术令进样口的维护徒手完成,智能判断最佳气密点,更换衬管更加快捷方便。3、连续分析的时间管理 软件实时显示
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