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光刻机
- 掩模尺寸:最大7英寸;- 样品尺寸:最大6英寸;- 卡盘移动:X,Y,Z,Theta轴手动,楔形补偿调平;- 紫外光源:6.25" X 6.25";- 光源功率:350瓦紫外灯;- 光源均匀
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光刻胶
光刻胶的主要技术参数1. 灵敏度(Sensitivity) 灵敏度是衡量光刻胶曝光速度的指标。光刻胶的灵敏度越高,所需的曝光剂量越小。单位:毫焦/平方厘米或mJ/cm2。2.分辨率
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USHIO自动光刻设备
*具有较高的生产对应能力和处理速度 每小时可达200WPH以上本产品具有较高的设备稳定性。 UPE-1255ATL是被广泛应用于LED芯片研发和大批量生产的一款自动光刻设备特点:*具有较高的设备
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Ushio 手动光刻机
*产能高于一般同行业竞争对手,最高可达80WPH;Ushio手动光刻设备UPE-1102LU主要应用于LED芯片(蓝白光,红黄光)研发和生产当中,并且对全自动生产线所产生的LED芯片破片有辅助生产和
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扫描探针光刻系统(SPL)
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YAMATO光刻胶固化炉
性 能 (依 JTM 规格 )使用温度范围 : 室温 +50~50 0℃温度调节精度: ±0. 5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下)温度分布精度: ±5℃(at 45 0℃ 无负荷状态下
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过程分析技术
PAT 可为活性化学反应提供实时监控。将内联 PAT 嵌入到 HEL 公司的 WinISO 控制软件后,化学驱动控制回路成为可能-为过程控制和优化增加了一个新维度。过程分析技术(PAT)过程
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DMD无掩膜光刻机
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Waters MALDI影像技术
利用MALDI质谱仪、分子成像技术直接生成组织截面的图谱是一种直接从生物学基质研究其大、小分子空间分布的强大工具。质谱数据图像的描述作为二维图像,允许从视觉上确定其分子的空间分布。不像昂贵耗时
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数字PCR技术平台
仪器平台诺禾致源数字PCR仪拥有的精准灵敏、通量灵活、操作简单、性能稳定等优势,适用于稀有突变检测、核酸序列的绝对定量及拷贝数变异等检测。与Real-time PCR技术不同,通过数字PCR
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