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Imprint Nano纳米压印
纳米压印的技术与工艺特点,独创性地设计和制备工作于低真空环境下,结合正负压可控调节并利用压缩空气作为压印驱动力的,通过压力传导装置、缓冲与匀压、压力调节控制装置等手段实现平稳可靠可控的压印
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统 纳米压印
产品特点:JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印、光子器件、通信设备等多个
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纳米压印设备之热压印:EVG510HE
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纳米压印系统
微纳米图形加工,特征线宽小于20nm; 主要特点: 1.桌面型设计; 2.热压印技术; 3.模板整合温度控制; 4.快速升温、快速降温,大大缩短热循环加工周期; 5.低压
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纳米压印系统
Nanonex由纳米压印领域先行者、普林斯顿大学周郁教授(Prof. Stephen Y. Chou)于1999年创立,其核心技术为周教授的研究团队历时八年、花费数百万美元科研经费完成的
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纳米压印机
NIL专利产品 小型纳米压印机 产品简介: Process is controlled by a programmable PLC with touch screen
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纳米压印模板
NIL -根据客户的订单要求进行加工 -优于20纳米的精度 -结构周期底至40nm -适用于热压和紫外压印 -设计制造适用于所有纳米压印设备的模板
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Nil纳米压印图章
仪器简介:应用 用于热力纳米压印的图章 用于紫外纳米压印的图章 纳米压印工具的图章供应商 聚合体铸件的模子 技术参数:设计参数 50mm直径内可有9个图案区域
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紫外固化纳米压印机
HoloPrinter UNI A6 DT是一款易于使用的桌面设备,适用于实验室的NIL工作。 典型应用包括:压印功能结构,如芯片实验室,衍射光学元件和其他类型的纳米压印结构。
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Obducat微纳米压印设备
仪器简介:纳米压印(NIL,Nano Imprint Lithography)是一种纳米微制造技术,利用该技术,可以将由电子束直写(e-Beam Lithiography)或聚焦离子束
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