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纳米压印设备之热压印:EVG510HE
方案,包括热压印、紫外压印、微接触印刷。EVG公司以其zhuan li的极其优异的对准技术和好的的热压技术为纳米压印的成功实施打下了坚实的基础。EVG510HE是一款半自动的热压印设备,用于硬模压印和
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Nanonex纳米压印系统NX-2500
规格参数:1、热塑压印模块 温度范围0~250oC 加热速度>300oC/分钟 制冷速度>150oC/分钟 压力范围0 ~ 3.8 MPa(550 psi
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THERMAL NIL 桌面式纳米热压印机
NIL TECHNOLOGY ApS (NILT)高分子聚合物中间层压印技术可以实现纳米压印/热压印非平面化的压印,同时高分子聚合物中间层的热塑弹性材料实现纳米结构的转移和复制。可保护昂贵的
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NX系列 纳米压印和高分辨率光刻系统
请选择合适的型号NX-B100多功能整片基板纳米压印系统(热压印)最大75毫米直径压印面积 热压印加热速度>200℃/分钟 制冷速度>60℃/分钟NX-B200多功能整片基板纳米压印系统
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NX-2600纳米压印和高分辨率光刻系统
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NX-B100/B200多功能整片基板纳米压印系统
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滨松超小微型光谱仪MS系列
mm)的光谱仪探头,它的开发过程整合了我们的MEMS和图像传感器技术,用于安装到移动测量设备中。MS系列采用带光接收狭缝的CMOS图像传感器。内 部光学系统包含了一个凸透镜,而光栅通过纳米压印技术制作
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日本电子JBX-9500FS电子束光刻系统
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过程分析技术
PAT 可为活性化学反应提供实时监控。将内联 PAT 嵌入到 HEL 公司的 WinISO 控制软件后,化学驱动控制回路成为可能-为过程控制和优化增加了一个新维度。过程分析技术(PAT)过程
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多功能集成清洁和单分子层气态镀膜系统
强度:> 10mW/cm2 (254nm波长)基板加热能力:700瓦,最大温度175摄氏度 Ultra-100清洁和单分子层成膜机集成了清洁和单分子层气态成膜功能与一体,可以用于纳米压印模具和基板提供
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