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溅射设备:CS-200z
在真空条件下,氩气在DC或RF作用下产生氩离子,高能的氩离子撞击靶材 产生溅射。溅射出的原子或分子离开靶材,沉积在基板表面,形成薄膜。成膜种类:金属,合金材料,SiO2,TaN,陶瓷等。成膜面积
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蒸发设备:蒸发Ei系列 ei-501z
1.Batch式高真空蒸发设备ei系列是可对应在基板上成金属膜或氧化物膜的设备。可通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的集中自动化操作,适用于研究开发及少量生产2.蒸发材料:金属
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达因特真空等离子处理系统: PCB FPC专用
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plasma等离子清洗机 (清洗器
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手机屏幕专用等离子清洗机
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PHI 4700 AES俄歇分析仪
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石英晶体微天平芯片
MHz 14 mm Cr/Au 50片/盒¥2,890.00兼容Sloan, Ulvac公司QCM仪器QCM 5 MHz 12.5 mm Ag/Al 50片/盒¥2,890.00QCM 5
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伯东Pfeiffer氦质谱检漏仪ASM 340
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上海伯东检漏仪热管检漏
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PHI Quantera II X射线光电子能谱仪
Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪(XPS)是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所zui新研发的XPS分析仪器,其
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