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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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Sentech集成等离子刻蚀和沉积的多腔系统
SENTECH多腔系统包括等离子刻蚀和/或沉积腔体、传送腔室、预真空室或片盒站。传送腔室包括传送机械手臂,可适用于三至六个端口。可以使用多达两个片盒站来增加产量。传送腔室可以配备多种选择。
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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德国 Sentech等离子沉积机SI 500 PPD
PECVD沉积工具SI 500 PPD的使用方便沉淀SiO2、SiNx、SiOxNy的标准工艺,a- si在室温到350℃之间。
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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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德国Sentech等离子沉积机 SI 500 D
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离子束刻蚀/沉积系统
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电弧等离子体沉积系统
日本ADVANCE RIKO公司致力于电弧等离子体沉积系统(APD)利用脉冲电弧放电将电导材料离子化,产生高能离子并沉积在基底上,制备纳米级薄膜镀层或纳米颗粒。
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