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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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德国Sentech等离子体沉积机PECVD Depolab 200
Depolab 200 PECVD等离子体沉积工具打开盖子加载适用于200毫米晶圆基片温度可达400℃低应力薄膜可选低频混频干式抽油机占用空间小 Depolab 200是由SENTECH公司
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德国Sentech自动扫描薄膜测量仪器SenSol
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德国Sentech光伏测量仪器RT Inline
。 SENTECH先进软件易于使用、基于配方的FTP软件包括一个大型的预定义应用数据库,这些应用符合研发以及生产环境中的质量控制要求。 RT inline 薄膜测量系统是为沉积过程的在线质量控制而设
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SUPERALD Exploiter原子层沉积大尺寸沉积系统
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2
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原子层沉积系统(ALD)
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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纳米材料沉积喷墨打印系统
林实验室, 南洋理工光电国家重点实验室等 SonoPlot Microplotter是世界上zei先进zei精密的微纳米打印系统,又名纳米材料沉积喷墨打印系统,在制作过程中没有加热和剪切应力因而不会
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电弧等离子体沉积系统
系统参数: 1. 真空腔尺寸:400X400X300长宽高2. 抽空系统:分子泵450L/s3. 电弧等离子体源:标配一个,最多3个4. 沉积气压:真空或者低气压气体(N2, H2,O2
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P 系列粉末原子层沉积系统
P 系列粉末原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该
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