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OCT 级干涉模组IFM
IFM100 及IMF200 是Mach-Zehnder 型干涉仪模组,通常为每个客户的OCT 系统配置而订制,可将PS-OCT 包括在内。IFM-100/200可包含诸如可见指引光、电控
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自动曝光控制系统衰减测试模型
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动态干涉仪Kaleo-Multiwave
有别于基于传统Fizeau 干涉仪的方法,采用位相检测方法直接构建的动态干涉仪既不需要移动待测元件多次曝光,也不需要采用偏振等复杂的光学手段,针对待测元件进行一次测量即可获得其反射面型或透过
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日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC
平行光曝光系统设计紧凑的平行光曝光系统。这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成,曝光方式可以是真空接触(硬接触)曝光方式。 也可根据要求
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玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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超导量子干涉仪器件
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Xper WLI 白光干涉仪
Xper WLI 白光干涉仪 Xper WLI 白光干涉仪Xper WLI 是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器
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多功能电子束曝光机
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皮米精度激光干涉仪
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