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OCT 级干涉模组IFM
IFM100 及IMF200 是Mach-Zehnder 型干涉仪模组,通常为每个客户的OCT 系统配置而订制,可将PS-OCT 包括在内。IFM-100/200可包含诸如可见指引光、电控
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自动曝光控制系统衰减测试模型
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动态干涉仪Kaleo-Multiwave
有别于基于传统Fizeau 干涉仪的方法,采用位相检测方法直接构建的动态干涉仪既不需要移动待测元件多次曝光,也不需要采用偏振等复杂的光学手段,针对待测元件进行一次测量即可获得其反射面型或透过
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多通道原位分析光谱仪RAMANRXN2TM 自动曝光,确保反应过程中的检测灵敏度
变化, 自动曝光,确保反应过程中的检测灵敏度,多通道反应监测,实现多个反应(zei多四个)的实时监测 可编程的通道采集监测,顺序操作用于快速采集。 多通道的RAMANRXN2TM拉曼光谱仪是分析、监测
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日本EHC 平行光曝光系统HTE-510-EHC
平行光曝光系统设计紧凑的平行光曝光系统。这种准直镜式平行光曝光系统使用一个超高压汞灯作为点光源。 主要部件由光源、吸式曝光台和面罩单元组成,曝光方式可以是真空接触(硬接触)曝光方式。 也可根据要求
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皮米精度激光干涉仪激光干涉仪Attocube Systems 应用:激光干涉仪检测纳米精度位移台
Attocube Systems皮米精度激光干涉仪 IDS 3010参考多项行业标准。完成位移台的检测。可以用在航空/航天行业领域中的误差精度项目。 皮米激光干涉仪 德国attocube
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玻璃基板曝光设备-曝光机玻璃
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上海纳腾高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)
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日本电子JBX-3200MV电子束光刻系统 步进重复式曝光的优点
可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。产品特点:利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠
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Xper WLI 白光干涉仪
Xper WLI 白光干涉仪 Xper WLI 白光干涉仪Xper WLI 是一款用于对各种精密器件及材料表面进行亚纳米级测量的检测仪器
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