-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
-
微波等离子化学气相沉积系统-MPCVD
微波等离子化学气相沉积技术(MPCVD), 通过等离子增加前驱体的反应速率,降低反应温度。适合制备面积大、均匀性好、纯度高、结晶形态好的高质量硬质薄膜和晶体。
-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 多种工艺气体
-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光子学
-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用微流体技术
-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用于微机电系统
-
微波等离子体增强化学气相沉积系统
耦合等离子体刻蚀系统、微波打胶机(去胶机)、反应等离子体灰化设备、微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD等; 该微波等离子体增强化学气相沉积系统MPECVD系统,主要用于单晶、多晶金刚石
-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用化合物半导体
-
微波等离子体增强化学气相沉积系统(MPECVD)
仪器简介:Woosin公司生产的MPECVD为一高效微波等离子体制备设备,可用于生长金刚石薄膜、碳纳米管、氮化硅、碳化硅等超硬膜,具有生长速度快、制备温度低、性价比高等优点,已有韩国
-
牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统 适用光电子学
热榜
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net