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牛津仪器Etch刻蚀工艺
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀
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湿法刻蚀处理系统
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美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-15NPP-湿法刻蚀设备
材质制成的带有联动传感触点的合瓣式舱体;12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;13、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹;四、适用工艺(包括但不限于下述湿法
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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湿法转印系统Tankblot Eco-Maxi
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湿法转印系统Tankblot Eco-Mini
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MidiLab9000-E/P/T 湿法冶金元素在线检测系统
MidiLab9000-E/P/T 湿法冶金元素在线检测系统是一款用于化工新能源和湿法有色冶金工厂液体样品在线过程检测系统。特别是针对萃取工艺、电解工艺生产镍、铜、锌、锂等有色金属过程中的浸出液
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高刻蚀速率腔刻蚀
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Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
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