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美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-8NPP
的带有联动传感触点的合瓣式舱体;12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;13、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹; 四、适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)光刻胶
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美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-15NPP
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美国Laurell湿法刻蚀显影机EDC-650Mz-23NPP
带有联动传感触点的合瓣式舱体;12、配套分析软件:SPIN3000操作分析软件;13、配套真空泵系统:无油型 220~240伏交流,50/60赫兹; 四、适用工艺(包括但不限于下述湿法制程)光刻胶显影
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刻蚀光栅
刻蚀光栅一、标准的刻蚀光栅规格:刻线/mm闪耀波长nm闪耀角度色散nm/mr12.7x12.7x 625x25x 625x25x 9.530x30x 9.550x50x 9.512.5x25x
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Insitec 湿法
确保长期无故障运行的基础。马尔文帕纳科拥有在多种湿法应用中经过验证的技术。 从含有多级级联稀释器可用于高浓度浆液的样品稀释硬件,到用于更稀的悬浮剂及乳剂的静态采样器,一应俱全。 成熟的技术确保代表性
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸
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伯东NS离子刻蚀机
上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子刻蚀机 离子蚀刻机 20-M/NS-12上海伯东 NS 进口离子蚀刻机 20-M/NS-12,适合大规模量产使用的离子
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离子束刻蚀/沉积系统
电子回旋共振技术(ECR)的小型离子束蚀刻系统,特别适合于科研用离子束刻蚀、减薄,清洗、沉积等。 EIS-200是Elionix推出的一款基于电子回旋共振技术(ECR
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PoroTest 1湿法针孔仪
)操作温度0-50℃灵敏度如测试电阻低于100K欧姆即声音报警涂层厚度范围0-300微米 PoroTest 1 湿法针孔仪 电火花检测仪操作简单,电池供电。适用于金属底材上的非导电性涂层。【简单介绍
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信宜特 湿法混合制粒机
流化制粒包衣机实验型规格型号及主要技术参数:流化制粒包衣机生产型规格型号及主要技术参数: 该设备主要用于多种物料的混合,实现高效物理性混合;或混合后物料通过雾化加液、高速搅 流化制粒包衣机
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